Przedstawiono przykład zastosowania techniki elipsometrii monochromatycznej w celu określenia dynamiki wzrostu warstw tlenkowych i wodorotlenkowych na miedzi w środowisku 0.1M NaOH. Badania te stanowią część projektu skupiającego się na oznaczeniu fizycznych i elektrycznych własności tlenku miedzi (I) oraz tlenku miedzi (II) podczas procesu formowania się warstwy. Jednoczesne pomiary elipsometryczne i impedancyjne są nowatorskie w skali światowej. W pracy tej, autorzy wyznaczają model optyczny dla układu wielowarstwowego, a także dyskutują możliwą strukturę powłoki. Implementacja aproksymacji EMA a także algorytm optymalizacji bazujący na przekształceniu Lavenberga-Marquardta zapewniają wysokie dopasowanie modelu do danych pomiarowych.
Authors
Additional information
- Category
- Publikacja w czasopiśmie
- Type
- artykuł w czasopiśmie wyróżnionym w JCR
- Language
- angielski
- Publication year
- 2009
