Praca poświęcona jest wykorzystaniu analizy widm XAFS zmierzonych na krawędzi K atomów Nb do badania struktury cienkich warstw NbN-(100-x)SiO2 (x = 100, 80, 60 mol%) otrzymanych techniką zol-żel poprzez wysokotemperaturowe wygrzewanie warstw Nb2O5-SiO2 w atmosferze NH3. Otrzymana struktura filmu jest złożona z granul NbN ulokowanych w matrycy SiO2. Analiza XAFS pokazuje, że we wszystkich próbkach w lokalnym otoczeniu niobu znajduje się zarówno azot jak i tlen, przy czym wewnątrz granul dominuje uporządkowana struktura typu delta-NbN, zaś w obszarze między granulami dominują tlenki niobu i inne fazy NbN(prawdopodobnie z niższą zawartością azotu). Wyniki XAFS pozwoliły na skorelowanie grubości warstwy i stechiometrii materiału z lokalną strukturą geometryczną i elektronową jonów Nb.
Authors
Additional information
- Category
- Publikacja w czasopiśmie
- Type
- artykuł w czasopiśmie wyróżnionym w JCR
- Language
- angielski
- Publication year
- 2012
