Repozytorium publikacji - Politechnika Gdańska

Przedstawiono prototyp optoelektronicznego systemu do monitorowania in-situ procesu CVD, wspomaganych plazmą mikrofalową. System składa się z układu optycznej spektroskopii emisyjnej OES oraz specjalizowanego spektroskopu ramanowskiego RS. Umożliwia on równoczesne monitorowanie składu plazmy oraz określanie dynamiki wzrostu i zawartości defektów warstwy. Przedstawiono wyniki badań przebiegu procesu wytwarzania warstw diamentopodobnych DLC. Wyniki monitorowania mogą być wykorzystywane do sterowania procesem.

Autorzy

• dr hab. inż. Robert Bogdanowicz link otwiera się w nowej karcie ,
• dr hab. inż. Marcin Gnyba link otwiera się w nowej karcie ,
• dr inż. Piotr Wroczyński link otwiera się w nowej karcie ,
• Marcin Leśniewski link otwiera się w nowej karcie