Przedstawiono optoelektroniczny system do diagnostyki in-situ plazmowych procesów CVD, wykorzystywanych do wytwarzania cienkich warstw diamentopodobnych. W systemie zastosowano przestrzenną optyczną spektroskopię emisyjną SR-OES i spektroskopię ramanowską. Pozwala to na jednoczesne badanie rozkładu cząstek w plaźmie i parametrów rosnącej warstwy. Opisano konstrukcję systemów pomiarowych, sprzęgniętych z komorą CVD za pomocą dedykowanych torów światłowodowych. Zaprezentowano wyniki prac eksperymentalnych i interpretację danych pomiarowych.
Autorzy
Informacje dodatkowe
- Kategoria
- Publikacja w czasopiśmie
- Typ
- artykuły w czasopismach recenzowanych i innych wydawnictwach ciągłych
- Język
- polski
- Rok wydania
- 2008
