Many material device applications would benefit from thin diamond coatings, but current growth techniques, such as chemical vapor deposition (CVD) or atomic layer deposition require high substrate and gas‐phase temperatures that would destroy the device being coated. The development of freestanding, thin boron‐doped diamond nanosheets grown on tantalum foil substrates via microwave plasma‐assisted CVD is reported. These diamond sheets (measuring up to 4 × 5 mm in planar area, and 300–600 nm in thickness) are removed from the substrate using mechanical exfoliation and then transferred to other substrates, including Si/SiO2 and graphene. The electronic properties of the resulting diamond nanosheets and their dependence on the free‐standing growth, the mechanical exfoliation and transfer processes, and ultimately on their composition are characterized. To validate this, a prototypical diamond nanosheet–graphene field effect transistor‐like (DNGfet) device is developed and its electronic transport properties are studied as a function of temperature. The resulting DNGfet device exhibits thermally activated transport (thermionic conductance) above 50 K. Below 50 K a transition to variable range hopping is observed. These findings demonstrate the first step towards a low‐temperature diamond‐based transistor.
Autorzy
- dr hab. inż. Robert Bogdanowicz link otwiera się w nowej karcie ,
- dr inż. Mateusz Ficek link otwiera się w nowej karcie ,
- dr hab. inż. Michał Sobaszek link otwiera się w nowej karcie ,
- Adrian Nosek,
- dr inż. Łukasz Gołuński link otwiera się w nowej karcie ,
- dr hab. inż. Jakub Karczewski link otwiera się w nowej karcie ,
- dr Andrés Jaramillo-botero,
- prof William A. Goddard III,
- Marc Bockrath,
- prof. dr hab. inż. Tadeusz Ossowski
Informacje dodatkowe
- DOI
- Cyfrowy identyfikator dokumentu elektronicznego link otwiera się w nowej karcie 10.1002/adfm.201805242
- Kategoria
- Publikacja w czasopiśmie
- Typ
- artykuł w czasopiśmie wyróżnionym w JCR
- Język
- angielski
- Rok wydania
- 2019