W artykule opisano problemy związane z określaniem grubości cienkich transparentnych warstw dielektrycznych, syntetyzowanych w procesach próżniowych. Przedstawiono stosowane metody pomiarowe, szczególny nacisk kładąc na techniki optoelektroniczne, oparte na badaniu interferencji i zmiany stanu polaryzacji światła w wyniku oddziaływania z cienką warstwą oraz na analizie spektralnej. Opisano praktyczne układy, umożliwiające pomiary grubości w zakresie od 100 nm do 1 mm i przedstawiono wyniki wykonanych badań. Potencjał rozwojowy metod optoelektronicznych umożliwia realizację systemów, umożliwiających zdalne wykonywanie pomiarów nieniszczących w trakcie trwania procesu syntezy materiału, także w warunkach silnych zakłóceń.
Autorzy
Informacje dodatkowe
- Kategoria
- Publikacja w czasopiśmie
- Typ
- artykuły w czasopismach recenzowanych i innych wydawnictwach ciągłych
- Język
- polski
- Rok wydania
- 2004
